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Iten Galvanik AG



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Die Photolithographie (LIGA) ist ein lithographisches Reproduktionsverfahren, bei dem mittels Belichtung Muster auf einer mit Photoresist beschichteten Grundplatte aufgebracht werden. Diese Verfahren ermöglicht die Herstellung von sehr feinen 2-D oder 3-D Teilen.

Zur Herstellung oder Reproduktion von hochpräzisen und komplexen Bauteilen werden vorwiegend Nickel oder Kupfer eingesetzt. Vielfach werden die Bauteile noch mit Gold oder Silber nachveredelt.

Die Geometrie der Öffnungen kann quadratisch, hexagonal, schlitzförmig oder rund in verschiedenen Anordnungen oder sogar als Zufallsraster gestaltet werden. Wandstärken von 0.01 mm bis 0.5 mm und größer sind möglich. Auch die Stegform kann einseitig oder beidseitig konisch abgebildet werden.

Das Verfahren erlaubt die Produktion von sowohl flachen als auch zylindrischen Mustern; das letztgenannte ermöglicht sogar die Herstellung von nahtlosen Zylindern.

Im konventionellen Verfahren wird das herzustellende Muster zunächst auf Lithofilm kopiert. Der Film wird dann auf einer schon mit Photoresist beschichteten Matrize aufgelegt und belichtet. Nach der Belichtung wird der Photoresist entwickelt. Die nicht-belichteten Teile lassen sich ganz leicht auswaschen und die belichteten Teile werden polymerisiert und durch UV-Licht gehärtet und bleiben auf der Matrize. Nach dem Vernickeln lassen sich die Teile leicht von der Matrize entfernen.

Anwendungsbereich:

Uhrenindustrie, Elektronik, Siebmaschinen, Trommelfilter, Rasierapparate, Tabakindustrie, Lebensmittelindustrie, Siebdruck, Beschriftungen